不都是一样的光刻机。

　　5nm7nm10nm芯片不都用一样的光刻机。光刻机在14nm以下制程属于高端制程，基本上用的是euv13.5纳米极紫外光光源光刻机。不过在没有euv光刻机诞生之前，台积电就已经可以用duv光刻机制造工艺制程达到7nm的芯片了。像中芯国际也是可以用duv光刻机制造7nm芯片。所以说5nm7nm10nm不一定都用一样的光刻机。只不过制造难度要高很多。